Hệ thống PIB-CVD của Voyager là một hệ thống lắng đọng hơi hóa học (PIB-CVD) được hỗ trợ bởi chùm ion plasma được chế tạo xung quanh Nguồn ion Endeavour RF không có dây tóc. Nguồn ion được cấp bằng sáng chế này, theo thiết kế, có khả năng kiểm soát độc lập cả mật độ dòng ion và năng lượng ion trên một phạm vi rộng, có khả năng tạo ra các lớp phủ nhiều lớp có tốc độ lắng đọng cao. Hệ thống có thể lắng đọng các lớp phủ chất lượng cao, tốc độ cao ở nhiệt độ thấp (dưới 100°C), làm cho hệ thống tương thích với các chất nền nhựa điển hình như polycarbonate (PC) và polymethylmethacrylate (PMMA).
Hệ thống PIB-CVD của Voyager được thiết kế tập trung vào nanocompozit giống kim cương (DLN) để cung cấp tính linh hoạt tốt nhất trong lớp để phủ lớp phẳng (ví dụ: tấm bán dẫn silicon) và các bộ phận ba chiều (ví dụ: thấu kính quang học). Hệ thống được cấu hình với hệ thống điều khiển Process Pro của Denton, cho phép điều khiển quy trình tự động và thủ công.
Ngoài ra, có một cấu hình buồng độc quyền tùy chọn để cho phép đồng phún xạ trong quá trình lắng đọng DLN cho phim DLN (Me-DLN). Cấu hình này là duy nhất trong ngành và mở ra tiềm năng phát triển phim DLN mới với các đặc tính cơ học, điện và ma sát có thể điều chỉnh được.
Nhiệt độ hoạt động thấp của Voyager PIB-CVD làm cho hệ thống tương thích với chất nền nhựa. Khả năng điều chỉnh vốn có của công nghệ PIB-CVD mang lại sự linh hoạt to lớn trong quá trình lắng đọng màng mỏng, hỗ trợ không chỉ các lớp bao bọc màng mỏng, mềm, dễ chảy mà còn cho các lớp phủ cứng, kỵ nước cao và trong suốt về mặt quang học.
Nguồn duy nhất, ít bảo trì của hệ thống vốn đã sạch, vì các khí phản ứng được phân phối ra bên ngoài thân nguồn. Điều này cung cấp thời gian hoạt động cao theo thiết kế.
Hệ thống PIB-CVD của Voyager hoàn toàn tương thích với tất cả các tùy chọn giao diện người dùng, bao gồm kiến trúc cụm Versa, để mở rộng quy mô sản xuất khối lượng lớn