Với Hệ thống Infinity IBD của Denton, bạn có thể đạt được hiệu suất quy trình cao hơn và độ đồng đều về độ dày so với các công nghệ lắng đọng màng mỏng truyền thống với tốc độ lắng đọng sẵn sàng sản xuất. Bạn có được khả năng kiểm soát tuyệt vời đối với năng lượng adatom trên nhiều loại áp suất quy trình, để có độ lặp lại và tính đồng nhất cao.

Hệ thống có thể được cấu hình với nguồn hỗ trợ ion để làm sạch trước và làm đặc, máy phân tích khí dư và điều khiển tại chỗ để theo dõi thông số kỹ thuật trong thời gian thực. Giải pháp IBD của Denton sử dụng một chùm ion khí trơ đơn năng lượng để bắn phá vật liệu mục tiêu và tạo ra chùm tia phún xạ được lắng đọng trên vật cố định đế quay.

Hệ thống Infinity IBD lý tưởng cho các ứng dụng như quang học chính xác, lớp phủ AR cho laser, quang học hồng ngoại và các thiết bị khác yêu cầu độ chính xác cao nhất. Mô-đun IBD của Denton hoàn toàn tương thích với các tùy chọn giao diện người dùng, từ khóa tải đơn đến công cụ cụm Versa của chúng tôi , để tăng thông lượng và hiệu quả xử lý.

Mô-đun Infinity Biased Target Sputter được thiết kế để cho phép điều khiển quy trình nâng cao và điều khiển vòng kín các thuộc tính màng cho màng mỏng hiệu suất cao ngay cả ở thông lượng cao. Trong các hệ thống IBD thông thường, đường đi dài của các ion năng lượng cao giữa nguồn và chất nền dẫn đến sự tán xạ. Tuy nhiên, với mô-đun BTS, các ion năng lượng cao chỉ tồn tại gần mục tiêu, loại bỏ hiện tượng tràn chùm tia.

Do áp suất vận hành thấp và năng lượng ion thấp, mô-đun phún xạ Infinity Bias Target là giải pháp lý tưởng cho các mảng mặt phẳng tiêu cự TCR cao thế hệ tiếp theo và các lớp phủ mặt thanh laze. Mô-đun phún xạ này có thể được tích hợp với bất kỳ tùy chọn giao diện người dùng nào , từ một khóa tải duy nhất đến công cụ cụm Versa của chúng tôi , để cải thiện thông lượng và khả năng mở rộng.

.