LỢI ÍCH CỦA ICM

Phương pháp phún xạ magnetron hình trụ ngược là một lựa chọn tuyệt vời cho các ứng dụng yêu cầu lớp phủ đồng nhất trên cần ốc xà cừ 3D Phức tạp . học chính xác và mang lại quy trình hợp lý hơn cho lớp phủ kính và bề mặt mặt cong khác.. chắc chắn tất cả các mặt đều được phủ, nhưng điều này làm chậm quá trình và tạo ra một quy trình phủ phức tạp.thời đạt được sự đồng nhất và kiểm tra chặt chẽ hơn.

Cùng với quang học chính xác, phương pháp phún xạ ICM cũng mang lại độ dày đồng nhất rất cao cho lớp phủ thiết bị y tế, hào Ẑấn. Độ tin cậy là rất quan trọng đối với ứng dụng này để bảo vệ sự an toàn toàn bộ bệnh nhân.ũng có thể giúp tăng khả năng phóng xạ của thiết bị.

Với Tỷ lệ lắng đọng cao vốn có, phún xạ ICM chắc chắn bạn không phải hy sinh khối lượng sản xuất và ROI để đạt được mục tiêu để suy ngẫm oẇcoợ. Kỹ thuật hình phún xạ này cũng có thể giúp giảm chi phí sở hữu, đặc biệt is in the application yêu cầu vật liệu đích đặt tiền.tiêu đề, cải thiện việc sử dụng mục tiêu cho toàn bộ hệ thống.

HỆ THỐNG HÀNG SẴN SÀNG SẢN XUẤT KẾT HỢP VỚI CÔNG NGHỆ CATHODE ISOFLUX

Denton Vacuum hiện sở hữu danh mục cực âm hình trụ Isoflux độc quyền, bao gồm tất cả thiết bị, công nghệ và tài sản định vị tuẇ. sáng chế của Isoflux vào hệ thống phún xạ đáng tin cậy của chúng tôi, chúng tôi có có thể định cấu hình các giải pháp ICM giàu phóng xạ dành riêng cho ứng dụng mang lại hiển thị hiệu suất cao với chi phí pấh.

Catốt hình trụ ngược của Isoflux có khả năng bao phủ các bề mặt cong hoặc 3D với tỷ lệ đồng đều +/- 0,25%.